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  ，喷头则是完成均匀堆积的中心部件。在堆积过程中，残留的化学物质极易附着在喷头外表，这些微米乃至纳米级的残留物会直接影响涂层均匀性，轻则导致薄膜功能直线下降，重则引发工艺缺点、产品作废。

  因而，在CVD工艺前后对喷头标明上进行非触摸式、高精度的清洁度与状况评价，是保证工艺稳定性、提高产品良率的中心环节。

  针对CVD喷头质控需求，Sensofar的S neox使用干与技能，供给高效查验测验计划：5倍物镜4秒快速扫描排查疑似残留物，50倍物镜2秒精准成像观测微纳米细节；低噪声特性不受倍率约束，可捕捉纳米级缺点，全程非触摸式无损丈量，为喷头清洁度验证供给较为牢靠支撑，筑牢薄膜工艺质量防地。